A:先端プラズマ技術が拓くナノマテリアルズフロンティア A:Frontier of Nano-Materials Based on Advanced Plasma Technologies |
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Entry No | Keynote/ Invited |
Presentation | Date | Time to start |
Time to finish |
Award | Presenter Name | Affiliation | Paper Title |
Dec. 5 13:00 - 15:30 横浜市開港記念会館 Room 6 Yokohama Port Opening Plaza, Room 6 |
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Chair : 八田 章光(高知工科大学) Akimitsu HATTA(Kochi University of Technology) |
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2240 | Invited | A-I5-001 | Dec. 5 | 13:00 | 13:30 | 清水 鉄司 Tetsuji SHIMIZU |
産業技術総合研究所/terraplasma GmbH National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/terraplasma GmbH |
低温大気圧プラズマを用いた慢性創傷処置 Cold Atmospheric Plasma Treatment on Chronic Wounds |
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2227 | Invited | A-I5-002 | Dec. 5 | 13:30 | 14:00 | 内田 儀一郎 Giichiro UCHIDA |
大阪大学接合科学研究所 Joining and Welding Research Institute, Osaka University |
60 MHz非平衡プラズマジェットの開発と純水中活性酸素・窒素種の選択的生成 Development of a 60 MHz nonthermal plasma jet and selective production of reactive oxygen and nitrogen species in the plasma treated water |
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2507 | Invited | A-I5-003 | Dec. 5 | 14:00 | 14:30 | 高島 圭介 Keisuke TAKASHIMA |
東北大学大学院電子工学専攻 Department of Electronic Engineering, Tohoku University |
大気圧空気プラズマ活性ガスから液中への活性種輸送に関する特性評価 Characterization on Reactive Species Transfer from Atmospheric Pressure Air Plasma Effluent to Liquid Water |
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2417 | Invited | A-I5-004 | Dec. 5 | 14:30 | 15:00 | 田中 宏昌 Hiromasa TANAKA |
名古屋大学 Nagoya University |
プラズマ医療科学とプラズマ活性溶液 Plasma medical science and Plasma-activated medium |
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2490 | A-O5-005 | Dec. 5 | 15:00 | 15:15 | 石川 健治 Kenji ISHIKAWA |
名古屋大学 Nagoya University |
プラズマ活性培養液(PAM)によって惹起される細胞内応答 Intracellular responses during incubation in plasma-activated cell culture medium (PAM) |
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2262 | A-O5-006 | Dec. 5 | 15:15 | 15:30 | *M | 山岡 壮太郎 Sotaro YAMAOKA |
名古屋大学大学院工学研究科電子工学専攻 Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University |
高速原子間力顕微鏡によるプラズマ活性培養液中における脂質二重膜形状変化の動的観察 Morphological Dynamics of Supported Lipid Bilayers in Plasma-Activated Liquids Observed by High-Speed Atomic Force Microscopy |
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Dec. 5 16:00 - 19:00 横浜市開港記念会館 Room 6 Yokohama Port Opening Plaza, Room 6 |
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Chair : 内田 儀一郎(大阪大学) Giichiro UCHIDA(Osaka University) |
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2208 | Invited | A-I5-007 | Dec. 5 | 16:00 | 16:30 | 梶田 信 Shin KAJITA |
名古屋大学 Nagoya University |
金属中でのプラズマ誘起ヘリウムバブルの成長:フラクタルナノ構造から光触媒 Plasma induced He bubble growth in metals: from fractal nanostructure to photocatalysts |
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2576 | A-O5-008 | Dec. 5 | 16:30 | 16:45 | 八田 章光 Akimitsu HATTA |
高知工科大学ナノテクノロジー研究センター/高知工科大学大学院工学研究科 Center for Nanotechnology, Kochi University of Technology/Graduate School of Engineering, Kochi University of Technology |
パルスDCプラズマの開発とナノカーボン膜CVDへの応用 Development of Pulsed DC Plasma for Application to CVD of Nano-carbon Films |
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2445 | Invited | A-I5-009 | Dec. 5 | 16:45 | 17:15 | *G | 富田 健太郎 Kentaro TOMITA |
九州大学 Kyushu University |
次世代リソグラフィーのための極端紫外光源用プラズマの診断 Diagnostics of extreme-ultraviolet (EUV) light source plasmas for next generation semiconductor lithography |
2327 | Invited | A-I5-010 | Dec. 5 | 17:15 | 17:45 | 松井 信 Makoto MATSUI |
静岡大学工学部 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
高出力半導体レーザーを用いたレーザー維持プラズマ Laser Sustained Plasma by High Power Laser Diode |
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2404 | Invited | A-I5-011 | Dec. 5 | 17:45 | 18:15 | 伊藤 剛仁 Tsuyohito ITO |
東京大学 The University of Tokyo |
液滴を用いたプラズマ材料プロセス Plasma materials processing with microdroplets |
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2405 | A-O5-012 | Dec. 5 | 18:15 | 18:30 | 白藤 立 Tatsuru SHIRAFUJI |
大阪市立大学/東京理科大学W-FSTセンター Osaka City University/W-FST Center, Tokyo University of Science |
HAuCl4とゼラチンの混合水溶液上で形成された高分子膜中の金ナノ粒子の粒径分布 Size Distribution of Gold Nanoparticles Embedded in a Polymer Film Formed by Plasma in Contact with Aqueous Solution of HAuCl4 and Gelatin |
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2349 | A-O5-013 | Dec. 5 | 18:30 | 18:45 | *M | 谷 真海 Masaumi TANI |
大阪府立大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University |
水溶液中でのプラズマによる酸化物粒子の改質 Modification of Oxide Particles by Plasma Generated in Aqueous Solution |
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Dec. 6 9:30 - 12:00 横浜市開港記念会館 Room 7 Yokohama Port Opening Plaza, Room 7 |
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Chair : 古閑 一憲(九州大学) Kazunori Koga(Kyushu University) |
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2567 | Keynote | A-K6-001 | Dec. 6 | 09:30 | 10:00 | 豊田 浩孝 Hirotaka TOYODA |
名古屋大学 Nagoya University |
マイクロ波プラズマ源開発と材料プロセスへの応用 Development of Microwave Plasma Sources and its Application to Materials Processing |
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2536 | Invited | A-I6-002 | Dec. 6 | 10:00 | 10:30 | Mickael LOZACH | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Research Center for Photovoltaics | Characterization of SiOx:H Ultra-Thin Films Fabricated by Plasma Atomic Layer Deposition for Advanced Passivation Layers applied to Heterojunction Solar Cells | |
2042 | Invited | A-I6-003 | Dec. 6 | 10:30 | 11:00 | *G | 徐 鉉雄 Hyunwoong SEO |
九州大学 Kyushu University |
次世代太陽光発電のための先端プラズマプロセス Advanced plasma process for next-generation photovoltaics |
2333 | Invited | A-I6-004 | Dec. 6 | 11:00 | 11:30 | 神原 淳 Makoto KAMBARA |
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻 Department of Materials Engineering, The University of Tokyo |
PS-PVD共凝縮によるSi:Sn複合ナノ粒状構造を利用したリチウムイオン電池の高容量化 Enhancement in capacity of lithium ion batteries with composite Si:Sn nanoparticulate anode produced through co-condensation in PS-PVD |
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2156 | A-O6-005 | Dec. 6 | 11:30 | 11:45 | *D | 亀島 晟吾 Seigo KAMESHIMA |
東京工業大学機械系 Department of Mechanical Engineering, Tokyo Institute of Technology |
非平衡プラズマによるNi/Al2O3上のCO2吸着促進 Nonthermal plasma enhanced CO2 adsorption over Ni/Al2O3 catalysts |
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Dec. 6 13:00 - 15:30 横浜市開港記念会館 Room 7 Yokohama Port Opening Plaza, Room 7 |
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Chair : 神原 淳(東京大学 Makoto KAMBARA(The University of Tokyo) |
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2104 | Keynote | A-K6-006 | Dec. 6 | 13:00 | 13:30 | Jin-hyo BOO | Sungkyunkwan University | Atmospheric Plasma Mediated Synthesis of ZnO Nanomaterials for Bio-medical Application | |
2573 | Invited | A-I6-007 | Dec. 6 | 13:30 | 14:00 | 板垣 奈穂 Naho ITAGAKI |
九州大学 Kyushu University |
不純物添加スパッタリング法による高移動度・ナノ結晶フリー a-In2O3:Sn薄膜の作製 Fabrication of High-Mobility Nanocrystal-Free a-In2O3:Sn Films by Magnetron Sputtering with Impurity-Mediated Amorphization Method |
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2176 | A-O6-008 | Dec. 6 | 14:00 | 14:15 | 谷出 敦 Atsushi TANIDE |
株式会社 SCREENホールディングス/名古屋大学大学院工学研究科 SCREEN Holdings Co., Ltd. /Graduate School of Engineering, Nagoya University |
プラズマ化学気相成長(PE-CVD)方式によるGaN結晶成長 Plasma-enhanced CVD growth of GaN films |
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2264 | Invited | A-I6-009 | Dec. 6 | 14:15 | 14:45 | 岡田 健 Takeru OKADA |
東北大学流体科学研究所 Institute of Fluid Science, Tohoku University |
中性窒素ビーム照射による窒素ドープグラフェンの選択合成 Selective Formation of Nitrogen-Doped Graphene by Neutral Nitrogen Beam |
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2468 | A-O6-010 | Dec. 6 | 14:45 | 15:00 | *M | 大北 若菜 Wakana OKITA |
東北大学 大学院工学研究科 Department of Electronic Engineering, Tohoku University |
プラズマCVD合成架橋グラフェンナノリボンの電気伝導特性 Electrical transport properties of suspended graphene nanoribbons grown by plasma CVD |
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2334 | A-O6-011 | Dec. 6 | 15:00 | 15:15 | *D | ジャンサ フィルマン Firman JUANGSA |
東京工業大学工学院機械系 Department of Mechanical Engineering, Tokyo Institute of Technology |
シリコン・ポリスチレンナノコンポジット薄膜のフォノン輸送特性 Phonon Thermal Transport in Silicon Nanoparticles and Polystyrene Nanocomposite Thin Films |
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2440 | A-O6-012 | Dec. 6 | 15:15 | 15:30 | 古閑 一憲 Kazunori KOGA |
九州大学 Kyushu University |
プラズマ中に捕捉されたナノ粒子を活用した高品質シリコン薄膜堆積 Deposition of High Quality Silicon Thin Films Utilizing Nanoparticles Trapped in Plasmas |