C-5 : 先端プラズマ技術が拓くナノマテリアルズフロンティア C-5 : Frontier of Nano-Materials Based on Advanced Plasma Technologies |
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| Entry No | Keynote/ Invited |
Presentation | Date | Time to start |
Time to finish |
Award | Presenter Name | Affiliation | Paper Title |
Dec. 8 13:00 - 17:15 横浜市開港記念会館/ Room C Yokohama Port Opening Plaza/ Room C |
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Chair : 近藤 博基 (名古屋大学) Hiroki KONDO (Nagoya Univ.) |
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| 2417 | Keynote | C5-K8-001 | Dec. 8 | 13:00 | 13:30 | 野崎 智洋 Tomohiro NOZAKI |
東京工業大学 Tokyo Institute of Technology |
再生可能エネルギーによる温室効果ガス有効利用 Greenhouse gas utilization by renewable electricity |
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| 2762 | Invited | C5-I8-002 | Dec. 8 | 13:30 | 14:00 | Sven STAUSS | Department of Advanced Materials, Graduate School of Frontier Sciences, The University of Tokyo | Surface dielectric barrier discharges in supercritical CO2 and their application to deposition processes | |
| 2666 | C5-O8-003 | Dec. 8 | 14:00 | 14:15 | 石島 達夫 Tatsuo ISHIJIMA |
金沢大学 Kanazawa University |
低マイクロ波電力でのマイクロ波励起水中気泡プラズマ生成 Production of Microwave Excited Bubble Plasma in Water at Low Microwave Power Injection |
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| 2676 | C5-O8-004 | Dec. 8 | 14:15 | 14:30 | 白藤 立 Tatsuru SHIRAFUJI |
大阪市立大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka City University |
マイクロ流路アレイ中のソリューションプラズマを用いた金ナノ粒子の合成 Gold Nanoparticle Synthesis Using Solution Plasma Generated in Micro Fluidic Arrays |
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| 2306 | Invited | C5-I8-005 | Dec. 8 | 14:30 | 15:00 | *G | Hyunwoong SEO | Kyushu University | Photovoltaic potentials of nano-particles based on advanced plasma processes |
| Break | Dec. 8 | 15:00 | 15:15 | ||||||
Chair : 白藤 立 (大阪市立大学) Tatsuru SHIRAFUJI (Osaka City Univ.) |
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| 2700 | Invited | C5-I8-006 | Dec. 8 | 15:15 | 15:45 | 近藤 博基 Hirok KONDO |
名古屋大学 Nagoya University |
先進プラズマプロセスによるカーボンナノ材料の合成とグリーンエネルギー応用 Advanced Plasma Synthesis of carbon nanomaterials for green energy applications |
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| 2075 | Keynote | C5-K8-007 | Dec. 8 | 15:45 | 16:15 | Chao-sung LAI | Chang Gung University | Low damage fluorographene dielectrics for graphene transistor | |
| 2722 | Invited | C5-I8-008 | Dec. 8 | 16:15 | 16:45 | Heeyeop CHAE | Sungkyunkwan University (SKKU) | Multivariate Analysis Techniques for Plasma Monitoring of Etching Processes | |
| 2892 | Invited | C5-I8-009 | Dec. 8 | 16:45 | 17:15 | Jean-paul BOOTH | LPP-CNRS, Ecole Polytechnique | Quantitative Diagnostics of Inductive Plasmas in Chlorine, Oxygen and Chlorine-Oxygen Mixtures | |
Dec. 9 9:30 - 12:00 横浜市開港記念会館/ Room C Yokohama Port Opening Plaza/ Room C |
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Chair : 柳生 義人 (佐世保工業高等専門学校) Yoshihito YAGYU (National Institute of Technology, Sasebo College) |
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| 2425 | Keynote | C5-K9-001 | Dec. 9 | 09:30 | 10:00 | 佐々木 浩一 Koichi SASAKI |
北海道大学大学院工学研究院量子理工学部門 Division of Quantum Science and Engineering, Hokkaido University |
マグネトロンスパッタリングによるCu2ZnSnS4薄膜堆積過程の解析 Analysis of magnetron sputtering deposition processes of Cu2ZnSnS4 thin films |
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| 2246 | C5-O9-002 | Dec. 9 | 10:00 | 10:15 | *M | 服部 克宏 Katsuhiro HATTORI |
名城大学理工学部 Faculty of Science and Technology, University of Meijo |
ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング中の基板温度の加熱機構 Heating mechanisms of substrate temperature in high-power impulse magnetron sputtering |
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| 2553 | C5-O9-003 | Dec. 9 | 10:15 | 10:30 | キム ジェホー Jaeho KIM |
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
幅50 mmの材料プロセス用大気圧プラズマジェット生成 Production of a 50-mm-wide atmospheric pressure plasma jet for materials processing |
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| 2704 | Invited | C5-I9-004 | Dec. 9 | 10:30 | 11:00 | 川崎 敏之 Toshiyuki KAWASAKI |
日本文理大学工学部 Faculty of Enginnering, Nippon Bunri University |
低温プラズマジェットにより気液相中に発生する活性酸素のヨウ素でんぷん反応による検出 Detection of Reactive Oxygen Species Generated by Non-thermal Plasma Jet using Iodine-starch Reactions |
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| 2701 | Invited | C5-I9-005 | Dec. 9 | 11:00 | 11:30 | 呉 準席 Jun-seok OH |
高知工科大学システム工学群/高知工科大学総合研究所ナノセンター School of Systems Engineering, Kochi University of Technology/Center for Nanotechnology, Research Institute of KUT |
紫外吸収分光方法を用いたプラズマ医療研究 UV-VIS Absorption Spectroscopy for Plasma Medicine |
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| 2541 | Invited | C5-I9-006 | Dec. 9 | 11:30 | 12:00 | 高島 圭介 Keisuke TAKASHIMA |
東北大学大学院工学研究科 Department of Electronic Engineering, Tohoku University |
交流高電圧とナノ秒パルスを用いた水導入空気プラズマジェットによる活性種制御と計測 Measurements of Reactive Species Controlled by Wet-Air Plasma Jet Using AC High Voltage and Nanosecond Pulses |
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Dec. 9 13:00 - 15:30 横浜市開港記念会館/ Room C Yokohama Port Opening Plaza/ Room C |
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Chair : 高島 圭介 (東北大学) Keisuke TAKASHIMA (Tohoku Univ.) |
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| 2926 | C5-O9-007 | Dec. 9 | 13:00 | 13:15 | *M | 安井 涼馬 Ryoma YASUI |
東京大学 The University of Tokyo |
室温・氷点下における大気圧ヘリウムパルス放電及び誘電体バリア放電のレーザー診断 Laser diagnostics on atmospheric-pressure helium pulsed and dielectric barrier discharges at room- and cryogenic-temperatures |
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| 2830 | C5-O9-008 | Dec. 9 | 13:15 | 13:30 | 内田 儀一郎 Giichiro UCHIDA |
大阪大学接合科学研究所 Joining and Welding Research Institute, Osaka University |
雰囲気ガス流制御によるプラズマジェット放電特性制御 Control of discharge characteristics of a plasma jet by ambient gas-flow conditions |
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| 2314 | Invited | C5-I9-009 | Dec. 9 | 13:30 | 14:00 | 内田 諭 Satoshi UCHIDA |
首都大学東京大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Metropolitan University |
プラズマ－生体界面における数値モデリング Numerical Modeling of Interface between Discharge Plasma and Biological Objects |
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| 2529 | C5-O9-010 | Dec. 9 | 14:00 | 14:15 | *G | 柳生 義人 Yoshihito YAGYU |
佐世保工業高等専門学校 National Institute of Technology, Sasebo College |
FE-DBDプラズマが酵母Saccharomyces cerevisiaeの遺伝子発現に与える影響 The Primary Results of Gene Expression by DNA Microarray Analysis on Yeast, Saccharomyces cerevisiae, after FE-DBD Plasma Exposure |
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| 2810 | C5-O9-011 | Dec. 9 | 14:15 | 14:30 | *G | 高松 利寛 Toshihiro TAKAMATSU |
神戸大学医学研究科消化器内科/東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻 Department of Gastroenterology, Kobe University /Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology |
3Dプリンタを用いた超小型大気圧低温プラズマジェットの開発 Development of atmospheric non-thermal mini-plasma jet created by a 3D printer |
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| 2218 | Invited | C5-I9-012 | Dec. 9 | 14:30 | 15:00 | 石崎 貴裕 Takahiro ISHZIAKI |
芝浦工業大学/JST-CREST Shibaura Institute of Technology/JST-CREST |
ソリューションプラズマによる異種元素含有カーボン材料の合成 Synthesis of heteroatom-containing carbon materials by solution plasma |
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| 2654 | C5-O9-013 | Dec. 9 | 15:00 | 15:15 | *M | マルディス マルディアンシャ Mardiansyah MARDIS |
名古屋大学分子化学工学分野 Department of Chemical Engineering, Nagoya University |
高圧二酸化炭素中でのパールズ・レーザー・アブレーションによる金、銀及びチタンナノ粒子の生成 Synthesis of Au, Ag and Ti Nanoparticles by Pulsed Laser Ablation in Pressurized CO2 |
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| 2689 | C5-O9-014 | Dec. 9 | 15:15 | 15:30 | *M | 高井 慎之介 Shinnosuke TAKAI |
名古屋大学 Nagoya University |
ラジカル支援有機金属化学気相成長法による窒化物の低温成長 Low-temperature Growth of InN Films on Si(111) Substrates by Radical-Enhanced Metal-Organic Chemical Vapor Deposition |
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Dec. 10 9:30 - 12:00 横浜市開港記念会館/ Room C Yokohama Port Opening Plaza/ Room C |
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Chair : 内田 儀一郎 (大阪大学) Giichiro UCHIDA (Osaka Univ.) |
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| 2758 | Keynote | C5-K10-001 | Dec. 10 | 09:30 | 10:00 | 神原 淳 Makoto KAMBARA |
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻 Dept of Materials Engineering, The University of Tokyo |
プラズマスプレーPVD時の不均化反応促進に伴うSi/SiOx複合ナノ粒子形成 Nanocomposite Si/SiOx particle formation through enhanced disproportionation reaction during plasma spray PVD |
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| 2373 | Invited | C5-I10-002 | Dec. 10 | 10:00 | 10:30 | 茂田 正哉 Masaya SHIGETA |
大阪大学接合科学研究所 Joining and Welding Research Institute, Osaka University |
熱プラズマジェットに輸送されるナノ粒子群の集団生成過程のモデリング Modelling of collective formation of nanoparticles transported with a thermal plasma jet |
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| 2744 | C5-O10-003 | Dec. 10 | 10:30 | 10:45 | *M | 竹下 知寛 Chihiro TAKESHITA |
京都大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Kyoto University |
プラズマスパッタリングを用いたSi・SiO2基板上におけるシリコンナノワイヤ形成 Silicon Nanowire Growth on Si and SiO2 Substrates by Plasma Sputtering |
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| 2286 | C5-O10-004 | Dec. 10 | 10:45 | 11:00 | *M | 永井 黎人 Reito NAGAI |
東北大学大学院工学研究科 Department of Electronic Engineering, Tohoku University |
マイルドプラズマによる数層二セレン化タングステンの光電気特性制御 Mild Plasma Treatment for Modulation of Optoelectrical Property of Few-Layer Tungsten Diselenide |
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| 2594 | C5-O10-005 | Dec. 10 | 11:00 | 11:15 | 井上 泰志 Yasushi INOUE |
千葉工業大学工学部/千葉工業大学大学院工学研究科 Faculty of Engineering, Chiba Institute of Technology/Graduate School of Engineering, Chiba Institute of Technology |
ITOコートされた離散的ナノ柱状構造化InN薄膜のエレクトロクロミック耐久性 Electrochromic Durability of ITO-coated InN Films with Isolated Nanocolumnar Structure |
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| 2778 | C5-O10-006 | Dec. 10 | 11:15 | 11:30 | *M | 東松 真和 Masakazu TOMATSU |
名城大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Engineering, University of Meijo |
エッチングマスクとしてカーボンナノウォールを使用した反射防止ナノ構造の作製 Etching of Carbon Nanowalls/SiO2 for the Fabrication of Antireflective Nanostructures |
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| 2775 | Invited | C5-I10-007 | Dec. 10 | 11:30 | 12:00 | 田嶋 聡美 Satomi TAJIMA |
名古屋大学 Nagoya University |
F2とNOｘガスを用いたSi系材料の表面粗さ制御 Controlling surface morphology of Si related materials using F2 and NOx gases |
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