イオンビームを利用した革新的材料創製
Organizers:
Representative
| ･ 雨倉 宏 | 物質・材料研究機構 |
Correspondence
| ･ 中尾 節男 | 産業技術総合研究所 | [email protected] |
| ･ 青木 学聡 | 京都大学 | [email protected] |
Co-Organizers
| ･ 馬場 恒明 | 長崎県工業技術センター |
| ･ 伊藤 久義 | 日本原子力研究開発機構 |
| ･ 岸本 直樹 | 物質・材料研究機構 |
| ･ 小林 知洋 | 理化学研究所 |
| ･ 永田 晋二 | 東北大学 |
| ･ 西川 宏之 | 芝浦工業大学 |
| ･ 辻 博司 | 京都大学 |
| ･ Feng Chen | Shandong University |
| ･ Paul K Chu | City University of Hong Kong |
| ･ Daryush Ila | Fayetteville State University |
| ･ Wolfgang Ensinger | Technical University Darmstadt |
Scope:
イオンビームを利用したプロセスは、この半世紀に亘り著しい発展を遂げてきており、この技術は、新材料合成、表面改質、組織・形状制御、表面分析等、材料科学の分野で広く利用されてきた。近年、地球環境問題の観点から、エネルギーの高効率利用、省エネルギープロセス、低環境負荷のシステム等の開発が求められており、これらを支える新規材料の開発への要求が高まっており、これまでに増して、材料科学の分野において、イオンビームを利用した技術の重要性は増してゆくものと期待される。そこで、本シンポジウムでは、イオン工学的手法を用いた、新材料合成、表面改質、組織制御の研究、あるいは新しいイオンビーム利用技術等を対象とし、革新的な材料技術を志向する研究発表を募り、横断的・学際的交流を通じて、ブレークスルーを探索したい。
Topics:
1. イオン-固体相互作用
2. ナノ構造の形成・改質
3. 材料特性の改質・制御
4. クラスターイオン、高速重イオン、高価数イオン, etc
5. プラズマイオン注入、プラズマ利用材料改質
6. 高分子・生体材料の改質
招待講演:
[基調講演]
- 多種多様なクラスターイオンの生成とビーム応用
高岡義寛 (京都大学)
[招待講演 (国内)]
- イオン照射材料中の空孔型欠陥の低速陽電子ビームによる分析木野村 淳 (京都大学)
- 集束イオンビームを利用した集積光学素子の開発とその場評価加田 渉 (群馬大学)
- トレンチ側面に作成したa-C:H膜のUVラマンによる評価崔 埈豪 (東京大学)
- 固体誘電体へのイオン照射により誘起される屈折率と構造の変化およびそれらの応用大木 義路 (早稲田大学)
[招待講演 (海外)]
- " Production of High Volume Fraction Quantum Dots by Ion Beam "
- Daryush ILA (UNC-FSU)
- " Exotic New Patterns, Terraced Topographies and Virtually Defect-Free Ripples Produced by Ion Sputtering "
- R. Mark Bradley (Colorado State University)
- " Reverse epitaxy on semiconductor surfaces"
- Xin Ou (Shanhai Institute of Microsystem and Information Technology)
- " Plasma-based surface modifications of metallic orthopedic materials and the bio-surface interactions "
- Hongqing Feng (City University of Hong Kong)
- "Surfing electron emitting sites on ion-beam fabricated self-organized Si nanofacets"
- Tapobrata Som (Institute of Physics, India)